OBLF光譜儀是一種高精度的光譜分析儀器，其原理基于散射和反射現象。它向被測物質中發射一束寬譜白光，并通過光纖探頭接收反射和散射光。被測物質中的顆粒、分子或界面會根據其顏色和形態對光的散射和反射產生不同的效應。在光纖中傳輸的光信號會受到被測物質中顆粒和分子的散射和吸收作用，導致光強度的衰減。通過測量不同波長的光強度，可以得到材料對不同波長光的吸收和散射特性，從而分析樣品的成分和結構。

　　OBLF光譜儀的主要特點包括：

　　1、技術先進：采用GDS（Gated discharge source）脈沖放電光源技術、全固態電路，無需輔助電極，維護簡單。

　　2、高效節能：無靜態氬設計，在等待樣品分析時可以不用氬氣保護，大大減少氬氣消耗量。

　　3、多基體分析能力：可同時分析Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Mg、Pb、Sn、Zn、Co等各種基體材料。

　　4、快速分析：自動完成從磨樣、取樣到分析的全部過程，通常只需一分鐘內即可完成。

　　5、高穩定性：光學系統采用真空光室，積分及控制電路置于真空光室中，不受外界環境變化的影響，測定結果準確，重現性及長期穩定性佳。

　　6、自清潔功能：開放式的電極架設計，具有自清潔功能，便于各種形狀和尺寸的樣品分析。

　　7、靈活配置：最多可安置60個分析通道，可根據需要延伸及擴展范圍。

　　8、操作簡便：儀器操作界面友好，易于上手，且具備自動化程度高的特點。

　　9、廣泛應用：適用于冶金、鋼鐵、鑄造、有色行業等實驗室環境下的快速分析需求。